日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計，減少了橫截面研磨時間。（最大加工率：硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺裝置：為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺裝置拆卸。
特點
混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性
高效：提高加工效率，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計，減少了橫截面研磨時間(最大加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時間減少了66%)
可拆卸式樣品臺：為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨，樣品臺設(shè)計為可拆卸型
規(guī)格
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項目 |
描述 |
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斷面加工臺 |
平面研磨臺 |
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氣源 |
氬氣(Ar) |
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加速電壓 |
0-6Kv |
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最大研磨速率﹡¹﹡²（硅材質(zhì)） |
約300μm/h﹡¹﹡² |
約20μm/h﹡³（點）
約2μm/h﹡?（面）
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最大樣品尺寸 |
20（W）×12(D)×7(H)mm |
Φ50×25(H)mm |
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樣品移動范圍 |
X±7mm,Y0－＋3mm |
X0－＋5mm |
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旋轉(zhuǎn)角度 |
- |
1r/m，25r/m |
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擺動角度 |
±15°，±30°，±40° |
±60°，±90° |
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傾斜 |
- |
0-90° |
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氣體流量控制系統(tǒng) |
流量調(diào)節(jié)器 |
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排氣系統(tǒng) |
渦輪分子泵(33L/S)+機械泵(50Hz時，135L/min,60Hz時，162L/min) |
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儀器外觀尺寸 |
616（W）×705(D)×312(H)mm |
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儀器重量 |
主機48kg+機械泵28Kg |
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可選附件 |
光學(xué)顯微鏡（用于觀測研磨中的樣品） |
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﹡¹：此研磨速率是對研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時所獲得的最大深度值
﹡²：此研磨速率是對硅材質(zhì)的材料進行研磨兩小時后獲得的平均值
﹡³：照射角度60°偏心值4mm
﹡?:照射角度0°偏心值0mm
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注：該儀器未取得中華人民共和國醫(yī)療器械注冊證，不可用于臨床診斷或治療等相關(guān)用途
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